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非常に「特 徴」コンパクトで取り扱いが容易 ●
H,N,Oラジカルの絶対密度測定が可能 ●
計測対象プラズマに影響を与えない 「構 成」 ●
光源部:カソード電極外形Φ1.0mm ●
検出部:真空紫外分光器、PMT ●
測定検出用プローブ ●
真空排気系 ●
電源及び制御部 製品案内 ■ラジカルモニターリングシステム 本製品は名古屋大学 堀勝教授の研究成果に基づき開発されたプラズマ中のラジカルの絶対密度を計測するラジカルモニターリング装置です。電荷を持たないラジカルは従来非常に複雑で大型の装置を用いての測定手段しかありませんでしたが、本ラジカルモニターリング装置は計測対象プラズマに影響を与えない超小型で且つ光学的手法を用いており、プロセスに重要なラジカルを計測しプロセスの安定化を行うことができます。このモニターリングシステムを組み込んだプラズマプロセス装置も提案します。最近、プラズマ以外のラジカル発生源からの原子状ラジカル（Ｈ，Ｎ，Ｏ等）絶対密度の計測においても注目されています。 |
